[에스앤에스텍] 애널리스트 리포트 요약 및 전망, 목표가 분석 중립(Hold)

101490 · KOSDAQ

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현재가

41,650원

목표가

105,000원

상승여력

+152.1%

종목 차트

기본 최근 1개월 표시(RSI·MACD 포함) · 드래그하면 과거 데이터까지 스크롤할 수 있고, 캔들에 마우스를 올리면 상세 시세를 볼 수 있습니다

최근 이슈

본업의 압도적 수익성과 EUV 국산화 기대감이 주가에 선반영된 가운데, 단기 밸류에이션 부담을 이겨낼 실적 증명이 필요한 숨고르기 국면

📈 강세 시나리오: EUV 블랭크마스크 양산 가속화 및 OPM 40% 조기 달성

  • 용인 신공장 수율 조기 안정화로 인한 매출 발생
  • 글로벌 파운드리 업체향 EUV 펠리클 공급 계약 체결
  • 반도체 미세공정 확대에 따른 하이엔드 블랭크마스크 수요 폭증

목표가 130,000원 (2027년 상반기)

📉 약세 시나리오: 신사업 지연 및 중국발 레거시 공정 수요 둔화

  • EUV 블랭크마스크 양산 시점 지연 및 품질 승인 미달
  • 중국 디스플레이/반도체 자급률 상승에 따른 수출 단가 하락
  • 금리 인상 유지에 따른 고성장주 멀티플 데이팅 발생

목표가 75,000원 (2026년 하반기)

투자 포인트

애널리스트 리포트 요약

재무 분석

차트 분석

관련 애널리스트 리포트

목표가 산정 방법론

방법론목표가근거
DCF (현금흐름할인)115,000원용인 신공장 가동에 따른 2027년 이후 EUV 블랭크마스크의 독점적 시장 점유율과 영구 성장률 3% 반영
PER (수익 기준)95,130원2025년 예상 EPS 2,718원에 글로벌 반도체 소재 피어 그룹 멀티플 상단인 35배 적용
PBR (자산 기준)102,000원ROE 21% 돌파에 따른 프리미엄 부여, 과거 고점 PBR 4.0배를 적용한 자산 가치 산출
PSR (매출 기준)98,000원고부가가치 EUV 제품 믹스 개선을 고려하여 타겟 PSR 8.5배 적용
EV/EBITDA (현금흐름 기준)110,000원신규 설비 투자 완료 후 본격적인 현금 창출 능력을 반영하여 20배 멀티플 적용

재무 하이라이트

기간매출액영업이익당기순이익EPSPERROEPBR부채비율
2026 (연간) 추정--------
2025 (연간)2,4375045812,71817.7721.243.3229.18
2024 (연간)1,7602953031,42118.0213.072.1720.33
2023 (연간)1,5032502591,20537.5812.584.3116.29

종목 개요

에스앤에스텍은 반도체 및 디스플레이 제조 공정의 핵심 재료인 '포토마스크 블랭크(Photomask Blank)'를 전문적으로 생산하는 기업입니다. 포토마스크 블랭크는 반도체 회로 또는 디스플레이 패널의 미세 패턴을 형성하는 데 사용되는 원판인 포토마스크를 제작하기 위한 필수 원재료로, 정밀한 식각 공정을 거쳐 최종 제품의 청사진 역할을 하는 포토마스크를 만드는 데 쓰입니다. 또한, 포토마스크를 오염으로부터 보호하여 수율을 높이는 데 기여하는 '펠리클(Pellicle)' 역시 주요 제품으로 공급하며, 국내외 반도체 및 디스플레이 산업 발전에 기여하고 있습니다. 이 회사는 고도의 기술력과 정밀성이 요구되는 포토마스크 블랭크 시장에서 국내 유일의 전문 생산업체 중 하나로 손꼽히며 독보적인 위치를 구축하고 있습니다. 특히 차세대 반도체 공정으로 주목받는 극자외선(EUV) 노광용 포토마스크 블랭크 개발에 역량을 집중하여 기술 경쟁력을 강화하고 있습니다. EUV 공정은 회로 선폭을 극단적으로 미세화하여 고성능, 고집적 반도체를 생산할 수 있는 핵심 기술로, 에스앤에스텍은 이 분야에서 글로벌 선도 기업들과 어깨를 나란히 하고자 연구 개발에 적극 투자하며 핵심 소재의 국산화 및 안정적인 공급망 구축에 중요한 역할을 담당하고 있습니다.

본 내용은 종목 추천이 아닌 개인적으로 관심 있는 종목을 정리한 내용입니다. 투자에 대한 책임은 전적으로 투자자 본인에게 있습니다. 증권투자는 반드시 자기 자신의 판단과 책임하에 하여야 하며, 자신의 여유자금으로 분산투자하는 것이 좋습니다.

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